《Japanese Journal Of Applied Physics》雜志影響因子:1.5。
期刊Japanese Journal Of Applied Physics近年評價數(shù)據(jù)趨勢圖
期刊影響因子趨勢圖
以下是一些常見的影響因子查詢?nèi)肟冢?
(1)Web of Science:是查詢SCI期刊影響因子的權(quán)威平臺,收錄全球高質(zhì)量學術(shù)期刊,提供詳細的期刊引證報告,包括影響因子、分區(qū)、被引頻次等關(guān)鍵指標。
(2)?Journal Citation Reports (JCR):JCR是科睿唯安旗下的一個網(wǎng)站,提供了期刊影響因子、引用數(shù)據(jù)和相關(guān)指標。用戶可以在該網(wǎng)站上查找特定期刊的影響因子信息。
(3)中科院SCI期刊分區(qū)表:提供中科院分區(qū)的期刊數(shù)據(jù)查詢,包括影響因子和分區(qū)信息。
《Japanese Journal Of Applied Physics》雜志是由Japan Society of Applied Physics出版社主辦的一本以物理-物理:應用為研究方向,OA非開放(Not Open Access)的國際優(yōu)秀期刊。
該雜志出版語言為English,創(chuàng)刊于1962年。自創(chuàng)刊以來,已被SCIE(科學引文索引擴展板)等國內(nèi)外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質(zhì)量的論文,重點介紹了PHYSICS, APPLIED在分析和實踐中的理論、研究和應用。
?學術(shù)地位:在JCR分區(qū)中位列Q3區(qū),中科院分區(qū)為物理與天體物理大類4區(qū),PHYSICS, APPLIED物理:應用小類4區(qū)。
期刊發(fā)文分析
期刊引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
期刊引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
APPL PHYS LETT | 3617 |
JPN J APPL PHYS | 2672 |
J APPL PHYS | 2018 |
PHYS REV B | 1597 |
PHYS REV LETT | 893 |
APPL PHYS EXPRESS | 837 |
J CRYST GROWTH | 812 |
IEEE ELECTR DEVICE L | 594 |
OPT EXPRESS | 576 |
IEEE T ELECTRON DEV | 565 |
期刊被引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
期刊被引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
JPN J APPL PHYS | 2672 |
J APPL PHYS | 365 |
APPL PHYS EXPRESS | 351 |
APPL PHYS LETT | 300 |
J ALLOY COMPD | 230 |
J PHYS D APPL PHYS | 204 |
AIP ADV | 199 |
SCI REP-UK | 194 |
ECS J SOLID STATE SC | 189 |
MATER RES EXPRESS | 181 |
文章引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
文章引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
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